彩娱乐 朔方华创获取半导体工艺腔室专利, 概况减少靶材滥用

发布日期:2024-10-28 13:59    点击次数:132

金融界2025年1月18日音讯,国度学问产权局信息走漏,北京朔方华创微电子装备有限公司获取一项名为“半导体工艺腔室”的专利,授权公告号CN222349104U,肯求日历为2024年1月。

专利选录走漏,本实用新式提供一种半导体工艺腔室,包括腔室本色、磁控组件、检测组件和多个转机部件,腔室本色的顶部具有效于安设溅射靶的安设位,磁控组件设置在溅射靶的上方,磁控组件包括多个磁性部件,多个磁性部件沿溅射靶的径向拆伙设置,检测组件设置在腔室本色内,并位于溅射靶的下方,用于对溅射靶的靶材名义的厚度均匀景况进行检测,多个转机部件与多个磁性部件逐一双应邻接,概况逐一双应的运转磁性部件联系于溅射靶升降。本实用新式提供的半导体工艺腔室概况减少靶材的滥用,彩娱乐提升溅射靶的应用率及使用寿命,裁汰溅射靶的使用成本,并概况减小靶材名义的厚度不均匀进度,改善晶圆名义千里积的薄膜的厚度及应力均匀性,改善半导体工艺效果均匀性。

声明称:“拟议中的军售将通过保卫日本国土以及驻扎在日本的美军人员的安全,提高日本应对当前和未来威胁的能力。日本将能毫不费力地将这些装备和服务吸收到其武装部队中。”

天眼查而已走漏,北京朔方华创微电子装备有限公司,建设于2001年,位于北京市,是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册本钱114153.708311万东说念主民币,实缴本钱114153.708311万东说念主民币。通过天眼查大数据分析,北京朔方华创微电子装备有限公司共对外投资了8家企业,参与招投标形貌992次,学问产权方面有商标信息31条,专利信息5000条,此外企业还领有行政许可339个。

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